Pulvérisation cathodique magnétron assistée par laser à haute énergie pour une déposition améliorée des couches minces

COÛT DU PROJET:

638 790 $

CONTRIBUTION DE PRIMA:

280 302 $

DÉTAILS DU PROJET:

Le développement et la fabrication de systèmes de dépôt de couches minces assisté par plasma est un domaine en forte expansion. En fonction de l’application, l’épaisseur de ces couches varie entre 2 nm et quelques micromètres avec un dépôt homogène sur des gaufres de quelques pouces de diamètre. Les deux technologies de dépôt physique, typiquement utilisées à cet égard, la pulvérisation cathodique et l’ablation laser, sont partiellement complémentaires : la première permet un dépôt très homogène sur de grandes surfaces mais nécessite beaucoup de temps, l’autre permet un excellent contrôle de la composition mais seulement sur une petite surface.

Dans le cadre d’une récente collaboration entre PLASMIONIQUE et l’INRS, il a été démontré qu’un système hybride pulvérisation/ablation ouvre d’intéressantes perspectives pour contrôler la qualité des dépôts sur de grandes surfaces. Le processus proposé bénéficie fortement d’une grande surface d’irradiation par le laser, ce qui est seulement possible avec des lasers plus puissants. En utilisant des lasers du laboratoire ALLS de l’INRS, ce projet vise à évaluer la faisabilité de procédés à contrôler la structure de certains films à l’aide de ce système, puis à l’optimiser en changeant les paramètres du laser qui assiste dans la fabrication.

La nouvelle technique de dépôt hybride, une fois consolidé, permettrait à Plasmionique d’offrir un nouvel outil de fabrication à l’échelle industrielle et de développement de dispositifs de mémoire CMOS avancés basés sur des jonctions tunnel ferroélectriques, pour lesquels ils ont un brevet. 4PiCoat Technologies bénéficiera davantage des résultats finaux de la recherche, à savoir la structure du revêtement appropriée pour une utilisation dans des applications biomédicales.